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专利类型:
行业分类:
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专利状态:
已选条件:
C02:水、废水、污水或污泥的处理X
F41:武器X
C08:有机高分子化合物;其制备或化学加工;以其为基料的组合物X
G03:摄影术;电影术;利用了光波以外其它波的类似技术;电记录术;全息摄影术X
清除全部X
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